www.newsunnychina.com------神钢SHINKO，三菱重工MITSUBISHI三菱减速机，大崎OSAKI，协和KYOWA，三菱马达

【SEMICON】ASML液浸ArF曝光设备 开口率1.2、业界最高 椿本TSUBAKI- -

                                      

荷兰ASML公司（ASM Lithography）日前发布了开口率（NA）高达1.2的液浸ArF曝光设备“XT:1700i”。NA值超过了尼康6月底发布的1.07，目前为业界最高。分辨率可达到45nm。2006年第1季度将出厂1号设备。

　　一般来讲，完全由透镜构成的全折射型光学系统，随着NA的不断提高，透镜口径会变得特别大，因此业界普遍认为尼康发布的NA1.07事实上已经是最大了。此次为了实现更高的NA（1.2），采用了由透镜和反射镜组成的反射折射型光学系统。由此，“减少了40％的透镜玻璃材料，将NA提高了15％”（ASML）。

　　作为反射折射型光学系统，采用了将全部反射镜装入透镜筒的“内嵌方式”。这种方式过去曾有人指出不适合于高NA化，而ASML则强调说这种方式具有多种优点。首先，由于能够将整个光学系统尺寸缩小到与过去的全折射型设备相同的水平，因此能够直接使用过去的曝光设备平台。另外，由于以锐角将光线入射到光学系统中，因此能够减轻镀膜的厚度不稳定性所造成的影响。ASML今后仍准备利用内嵌式光学系统进一步提高NA。

- 作者： newsunny 访问统计：　2005年07月18日, 星期一 15:54 加入博采